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Magnetron sputtering (磁控濺射台))

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  • 真空等離子清洗原理Principle of vacuum plasma cleaning

    真空等離子清洗原理等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處於高速運動狀態的電子;處於激
    發布時間:2021-04-17   點擊次數:33

  • 真空等離子清洗產品特點Characteristics of vacuum plasma cleaning products

    真空等離子清洗產品特點1.超大處理空間,提升處理產能,采用PLC控製係統,精確的控製設備運行。2.可按照客戶需求定製,滿足客戶的需求。3.保養維修成本低,便於客戶成本控製。4.高精度,快響應,良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業的技術支持
    發布時間:2021-03-16   點擊次數:33

  • 磁控濺射鍍膜設備在工業中有什麽優勢What are the advantages of magnetron sputtering equipment in indus...

    磁控濺射鍍膜設備在工業中有什麽優勢磁控濺射鍍膜設備發展至今,在工業方麵顯的極為重要,其作用範圍廣泛,徹底的改變了傳統的鍍膜行業。使得鍍膜作業在生產質量方麵以及效率方麵都得到了較大的提升。那麽磁控濺射鍍膜設備在工業中有什麽優勢呢?磁控濺射鍍膜
    發布時間:2020-11-26   點擊次數:63

  • 等離子表麵處理和電暈處理有什麽不同What is the difference between plasma surface treatment and corona...

    等離子表麵處理和電暈處理有什麽不同等離子表麵處理器與電暈的效果是差不多一樣的,隻不過處理方式不一樣,電暈隻能處理很薄的東西,如塑料膜一類的東西,要求處理物體積不能大了,用於寬麵積處理。其原理是利用高頻率高電壓在被處理的塑料表麵電暈放電(高頻
    發布時間:2020-11-06   點擊次數:61

  • 濕法刻蝕機應用廣泛Wet etching machine is widely used

    濕法刻蝕機應用廣泛濕法刻蝕機應用領域1、半導體元件、印刷線路板的清洗。2、高分子材料表麵修飾3、生物芯片、微流控芯片的清洗4、芯片、電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。6、
    發布時間:2020-10-26   點擊次數:90

  • 等離子刻蝕物的處理Treatment of plasma etchants

    等離子刻蝕物的處理在等離子刻蝕過程中,通過處理氣體的作用,被刻蝕物會變成氣相(例如在使用氟氣對矽刻蝕時)。處理氣體和基體物質被真空泵抽出,表麵連續被新鮮的處理氣體覆蓋。不希望被刻蝕部分要使用材料覆蓋起來(例如半導體行業用鉻做覆蓋材料)。  
    發布時間:2020-10-13   點擊次數:59

  • 化學氣相沉積(CVD)Chemical vapor deposition (CVD)

    化學氣相沉積(CVD)CVD是ChemicalVaporDeposition的簡稱,是指高溫下的氣相反應,例如,金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解,氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的
    發布時間:2020-09-25   點擊次數:176

  • Principle of etching process蝕刻工藝的原理

    蝕刻工藝的原理從專業意義上講蝕刻的原理是專指金屬按照設計和工藝要求,通過專業的蝕刻機所進行的一種受控腐蝕行為。通過這種受控化學加工,可以滿足某些特定場合的設計要求,而這些要求是傳統機械加工方法所不能達到
    發布時間:2020-09-03   點擊次數:67

  • 等離子刻蝕機的檢驗操作及處理模式Inspection operation and processing mode of plasma etching machine

    等離子刻蝕機的檢驗操作及處理模式等離子刻蝕機的原理是在真空狀態下,利用射頻輻射使得氧、氬、氮、四氟化碳等氣體生成具有高反應活性的離子與器件等反應形成揮發性化合物,然後由真空係統獎這些揮發性物質清除出去。  等離子刻蝕機檢驗操作及判斷1.確認
    發布時間:2020-08-18   點擊次數:63

  • What is the performance of the plasma stripper during etching operation?等離子去膠機進行刻...

    等離子去膠機進行刻蝕操作時有哪些表現?等離子去膠機進行去膠操作十分的簡單,並且效率高,去膠後的表麵幹淨光潔、沒有任何的劃痕、成本低、環保。電介質等離子體去膠機在進行刻蝕時,一般會被應用在電容耦合等離子體平行板反應器上,在平行板
    發布時間:2020-08-05   點擊次數:53

  • 等離子體表麵處理多久失效How long does plasma surface treatment fail

    等離子體表麵處理多久失效對於等離子體的處理時間,離子體處理聚合物表麵發生的交聯、化學改性、刻蝕主要是因為等離子體使聚合物表層分子發生斷鍵生成大量的自由基。實驗說明,隨著等離子處理時間的延長、放電功率增大,生成的自由基強度增加,達到Z大點後進
    發布時間:2020-07-09   點擊次數:75

  • 等離子表麵處理技術也具有以下優勢Plasma surface treatment technology also has the following advantage...

    等離子表麵處理技術也具有以下優勢1.環保技術:等離子表麵處理作用過程是氣固相幹式反應,不消耗水資源、無須添加化學藥劑2.效率高:整個工藝能在較短的時間內完成3.成本低:裝置簡單,容易操作維修,少量氣體代替
    發布時間:2020-06-29   點擊次數:104

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