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Magnetron sputtering (磁控濺射台))

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  • 等離子表麵處理技術也具有以下優勢Plasma surface treatment technology also has the following advantage...

    等離子表麵處理技術也具有以下優勢1.環保技術:等離子表麵處理作用過程是氣固相幹式反應,不消耗水資源、無須添加化學藥劑2.效率高:整個工藝能在較短的時間內完成3.成本低:裝置簡單,容易操作維修,少量氣體代替
    發布時間:2020-06-29   點擊次數:104

  • 選擇真空退火爐需要考慮的因素 Factors to be considered in selecting vacuum annealing furnace

      真空退火爐是實現真空熱處理的重要設備。隨著真空退火爐在91shipin生產生活中的應用越來越廣泛,選購真空退火爐也成為消費者頭疼的問題,那麽選擇真空退火爐需要考慮的因素有哪些呢?下麵小編給大家介紹下。  1、應根據所要熱處理的零件化學成分和加熱溫度
    發布時間:2019-07-20   點擊次數:126

  • 磁控濺射設備的主要用途Main uses of magnetron sputtering equipment

    (1)各種功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低溫沉積氮化矽減反射膜,以提高太陽能電池的光電轉換效率。(2)裝飾領域的應用,如各種全反射膜及半透明膜等,如手機外殼,鼠標等。(3)在微電子領域作為一種非熱式鍍膜
    發布時間:2019-06-22   點擊次數:328

  • 磁控濺射種類?Magnetron sputtering type?

      磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表麵附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶麵從而濺射出靶材。  靶源分平衡和非平衡式,平衡式
    發布時間:2019-03-30   點擊次數:212

  • 金屬化學蝕刻機的步驟Steps of metal chemical etching machine

      工業上金屬等離子刻蝕機的化學腐蝕通常有下述四個步驟:  1.清潔處理:其目的是將待腐蝕零件毛培表麵的各種汙漬清洗幹淨,以保證防蝕層能與金屬表麵的粘附力均勻一致,並使蝕刻速度均勻不變。常用的清潔處理方法有:有機溶劑清潔、堿性化學清潔、酸性
    發布時間:2018-12-08   點擊次數:246

  • 蝕刻機噴頭的作用及維護Function and maintenance of etcher nozzle

      1.蝕刻機噴頭的介紹:蝕刻機噴頭是等離子刻蝕機噴淋裝置中Z重要的一個部件,藥液噴淋的形狀是根據蝕刻機噴頭的種類來決定的,不同的蝕刻機噴頭所起到的作用是不一樣的。  2.蝕刻機噴頭的作用:主要作用是把蝕刻液均勻的噴淋到工件上,蝕刻機噴頭根
    發布時間:2018-11-10   點擊次數:284

  • 等離子刻蝕機的缺點?Disadvantages of plasma etcher?

    1、矽片水平運行,機片高(等離子刻蝕去PSG槽式浸泡甩幹,矽片受衝擊小);2、下料吸筆易汙染矽片(等離子刻蝕去PSG後甩幹);3、傳動滾抽易變形(PVDF,PP材質且水平放置易變形);4、成本高(化學品刻蝕代替等離子刻蝕成本增加)。此外,
    發布時間:2018-04-28   點擊次數:108

  • 等離子刻蝕工藝--裝片Plasma etching process -- chip loading

    等離子體係統效應的過程轉換成材料的蝕刻工藝。在待刻蝕矽片的兩邊,分別放置一片與矽片同樣大小的玻璃夾板,疊放整齊,用夾具夾緊,確保待刻蝕的矽片中間沒有大的縫隙。冷熱探針法冷熱探針法將夾具平穩放入反應室的支架上,關好反應室的蓋子。等離子刻蝕檢驗
    發布時間:2018-03-17   點擊次數:190

  • 刻蝕的具體過程可描述幾個步驟?How many steps can be described in the etching process?

    當刻蝕氣體被通入刻蝕反應腔中,在射頻電場的作用下產生等離子體輝光放電,反應氣體分解成各種中性的化學活性基團,分子、電子、離子;由於電子和離子的質量不同使得質量較輕的電子能夠響應射頻電場的變化而離子卻不能,正是這種差異在電極上產生負偏壓Vd
    發布時間:2018-02-01   點擊次數:97

  • 91xjcc下载官网電子科技是做什麽的?What does Cycas electronic technology do?

    蘇州91xjcc下载官网電子科技有限公司成立於2014年,是一家為國內半導體,MEMS及光電產業客戶提供再製造設備,零配件及服務的公司。91guochan的核心產品線包括NovellusC1/C2PECVD,LamRainbow/TCP係列刻蝕機以及AMATP5
    發布時間:2018-02-01   點擊次數:108

  • Reactive ion etching machine is an independent RIE reactive ion etching system反...

    反應離子刻蝕機是一款獨立式RIE反應離子刻蝕係統,配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品。具有不鏽鋼櫃子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便於晶圓片裝載.腔體有兩個端口:一個帶有2"
    發布時間:2018-02-01   點擊次數:183

  • 如何提高磁控濺射台的濺射效率?How to improve sputtering efficiency of magnetron sputtering table?

    磁控濺射台通常的濺射方法,濺射效率不高。為了提高濺射效率,首先需要增加氣體的離化效率。為了說明這一點,先討論一下濺射過程。當經過加速的入射離子轟擊靶材(陰極)表麵時,會引起電子發射,在陰極表麵產生的這些電子,開始向陽極加速後進人負輝光區,並
    發布時間:2018-01-04   點擊次數:242

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