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Magnetron sputtering (磁控濺射台))

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  • 磁控濺射鍍膜設備在工業中有什麽優勢What are the advantages of magnetron sputtering equipment in indus...

    磁控濺射鍍膜設備在工業中有什麽優勢磁控濺射鍍膜設備發展至今,在工業方麵顯的極為重要,其作用範圍廣泛,徹底的改變了傳統的鍍膜行業。使得鍍膜作業在生產質量方麵以及效率方麵都得到了較大的提升。那麽磁控濺射鍍膜設備在工業中有什麽優勢呢?磁控濺射鍍膜
    發布時間:2020-11-26   點擊次數:63

  • 等離子表麵處理和電暈處理有什麽不同What is the difference between plasma surface treatment and corona...

    等離子表麵處理和電暈處理有什麽不同等離子表麵處理器與電暈的效果是差不多一樣的,隻不過處理方式不一樣,電暈隻能處理很薄的東西,如塑料膜一類的東西,要求處理物體積不能大了,用於寬麵積處理。其原理是利用高頻率高電壓在被處理的塑料表麵電暈放電(高頻
    發布時間:2020-11-06   點擊次數:61

  • 濕法刻蝕機應用廣泛Wet etching machine is widely used

    濕法刻蝕機應用廣泛濕法刻蝕機應用領域1、半導體元件、印刷線路板的清洗。2、高分子材料表麵修飾3、生物芯片、微流控芯片的清洗4、芯片、電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。6、
    發布時間:2020-10-26   點擊次數:90

  • 等離子刻蝕物的處理Treatment of plasma etchants

    等離子刻蝕物的處理在等離子刻蝕過程中,通過處理氣體的作用,被刻蝕物會變成氣相(例如在使用氟氣對矽刻蝕時)。處理氣體和基體物質被真空泵抽出,表麵連續被新鮮的處理氣體覆蓋。不希望被刻蝕部分要使用材料覆蓋起來(例如半導體行業用鉻做覆蓋材料)。  
    發布時間:2020-10-13   點擊次數:59

  • 化學氣相沉積(CVD)Chemical vapor deposition (CVD)

    化學氣相沉積(CVD)CVD是ChemicalVaporDeposition的簡稱,是指高溫下的氣相反應,例如,金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解,氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的
    發布時間:2020-09-25   點擊次數:176

  • Principle of etching process蝕刻工藝的原理

    蝕刻工藝的原理從專業意義上講蝕刻的原理是專指金屬按照設計和工藝要求,通過專業的蝕刻機所進行的一種受控腐蝕行為。通過這種受控化學加工,可以滿足某些特定場合的設計要求,而這些要求是傳統機械加工方法所不能達到
    發布時間:2020-09-03   點擊次數:67

  • 等離子刻蝕機的檢驗操作及處理模式Inspection operation and processing mode of plasma etching machine

    等離子刻蝕機的檢驗操作及處理模式等離子刻蝕機的原理是在真空狀態下,利用射頻輻射使得氧、氬、氮、四氟化碳等氣體生成具有高反應活性的離子與器件等反應形成揮發性化合物,然後由真空係統獎這些揮發性物質清除出去。  等離子刻蝕機檢驗操作及判斷1.確認
    發布時間:2020-08-18   點擊次數:63

  • 等離子表麵處理技術在塑料行業的應用Application of plasma surface treatment technology in plastics ind...

    等離子表麵處理技術在塑料行業的應用由於大多數塑料材料的表麵張力很低,因此過去的很多設計往往是遷就材料,隻要在經過一定的等離子表麵處理後表麵能達到了噴塗或粘接等工藝的要求,就優先考慮使用這種材料。&n
    發布時間:2020-02-18   點擊次數:61

  • 磁控濺射的工作原理Working principle of magnetron sputtering

    磁控濺射的工作原理  磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞,使其電離產生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,並以高能量轟擊靶表麵,使靶材發生濺射。在濺射粒子中,
    發布時間:2020-01-13   點擊次數:120

  • Magnetron sputtering has two characteristics of "low temperature" and "high speed...

    磁控濺射具有“低溫”、“高速”兩大特點產生這兩大特點的原理為:磁控濺射是以磁場來改變電子的運動方向,並束縛和延長電子的運動軌跡,從而提高電子對工作氣體的電離幾率和有效的利用了電子的能量。因此,是正離子對靶材轟擊所引
    發布時間:2019-12-30   點擊次數:164

  • What are balanced magnetron sputtering and unbalanced magnetron sputtering?什麽是平衡磁控...

    什麽是平衡磁控濺射和非平衡磁控濺射?平衡磁控濺射即傳統的磁控濺射,是在陰極靶材背後放置芯部與外環磁場強度相等或相近的永磁體或電磁線圈,在靶材表麵形成與電場方向垂直的磁場。沉積室充入一定量的工作氣體,通常為Ar,在
    發布時間:2019-12-13   點擊次數:114

  • 等離子刻蝕機的檢驗操作及處理模式    Inspection operation and treatment mode of plasma etcher

    等離子刻蝕機的檢驗操作及處理模式  等離子刻蝕機的原理是在真空狀態下,利用射頻輻射使得氧、氬、氮、四氟化碳等氣體生成具有高反應活性的離子與器件等反應形成揮發性化合物,然後由真空係統獎這些揮發性物質清除出去。  一
    發布時間:2019-11-28   點擊次數:127

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